製品説明
ポリ（ビニルシンナメート）は、古典的なネガ型感光性樹脂です。紫外線照射下では、追加の光開始剤を必要とせずに、自律的に光二量化および架橋を起こすことができます。
高解像、高感度、基板への密着力が強いのが特徴です。現像後はゲルのシワやピンホールなどのトラブルが少なく、現像パターンは鮮明で耐エッチング性に優れています。
製品仕様
| 製品名 | ポリ(ケイ皮酸ビニル) |
| CAS番号 | 9050-06-0 |
| アイテム番号 | M900 |
| 外観 | 白色〜淡褐色の粉末または結晶 |
| 分子量 | 50,000 ~ 100,000 |
| 乾燥減量 | 1.0%以下 |
| パッケージ | 10mg/1g/100gなど |
| 配達 | 2～3日 |
| ストレージ | 室温 |
| MSDS/COA/TDS | つながってください |
製品用途
1.半導体＆マイクロエレクトロニクス：ウェハやチップの微細パターン形成に使用されるネガ型フォトレジストの原料。
2.PCB産業：微細回路を作製するためのプリント基板用のフォトリソグラフィー製版。
3.フラットパネルディスプレイ：精密ディスプレイコンポーネント用のフォトリソグラフィーと微細パターン処理。
4.精密ハードウェアと微細加工：微細パターン形成のための金属エッチングと精密マスクの準備。
5.研究および学術研究室: フォトリソグラフィーおよび感光性材料の実験に関する基礎研究。
よくある質問
Q: ポリ (ケイ皮酸ビニル) には光開始剤が必要ですか?
A: いいえ。これはネガ型感光性樹脂であり、UV 照射下で直接光二量化架橋を起こすことができます。
Q: ポリ（ケイ皮酸ビニル）は水に溶けますか?
Ａ：水に不溶、ケトン、エステル系有機溶剤に可溶。
Q: 保管時の遮光要件は何ですか?
A: 密閉容器に入れて光を避けて保管してください。早期の架橋を引き起こす UV 暴露を防止します。
Q: この製品はどのようなリソグラフィープロセスに適していますか?
A: ネガ型フォトレジスト リソグラフィーに適用されます。露光された領域は架橋して硬化し、現像後も露光されたパターンが残ります。
Q: 現像後にしわやピンホールの欠陥はよくありますか?
A: この製品は高感度と強力な粘着力を備えています。適切なプロセス条件下では、しわやピンホールはほとんど発生しません。
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