製品説明
PEES (pEES) は、酸に不安定なエトキシエトキシ保護基を持ち、酸触媒下で迅速に脱保護できます。優れた熱安定性と超低金属不純物が特徴です。これを重合して、高解像度 KrF 化学増幅型フォトレジスト用のポリヒドロキシスチレン (PHS) を調製できます。
製品仕様
| 製品名 | PEES/4-(エトキシエトキシ)スチレン |
| CAS番号 | 157057-20-0 |
| アイテム番号 | M120 |
| 外観 | 無色透明の液体 |
| 純度 | 99%以上 |
| 水分含有量 | 0.05%以下 |
| 金属イオン不純物 | 1 ppb 以下 |
| パッケージ | 100g/1kg/10kgなど |
| 配達 | 2～3日 |
| ストレージ | 室温 |
| MSDS/COA/TDS | つながってください |
製品用途
PEES (p-(1-エトキシエトキシ) スチレン) は、主に半導体マイクロエレクトロニクス、機能性高分子材料、および高度な新材料研究開発産業における KrF フォトレジスト樹脂の合成に使用されます。
よくある質問
Q: PEES のストレージ要件は何ですか?
A: TBC 阻害剤で安定化されています。光の当たらない2～8度の場所に密封して保管してください。空気と熱源を隔離して、ビニルの自己重合や酸による早期の脱保護を防ぎます。
Q: KrF フォトレジスト樹脂システムにおける PEES モノマーの原理は何ですか?
A: PEES には酸に敏感なエトキシエトキシ保護基が含まれています。リソグラフィー露光後に生成される光酸が脱保護を引き起こします。樹脂がアルカリ不溶性からアルカリ可溶性に変化し、ウエハパターンの現像を実現します。
Q: SDS によると、PEES の動作にはどのような保護が必要ですか?
A: 目、皮膚、気道を刺激します。作業は換気フード内で、ゴーグル、耐溶剤性手袋、フェイスシールドを着用して実行する必要があります。
Q: PEES と pACS / PTBS フォトレジスト モノマーの主な違いは何ですか?
A: PEES は、酸の脱保護速度が速いエトキシエトキシ保護基を持っています。 pACS は脱保護のために加水分解が必要ですが、PTBS には tert-ブトキシ基があります。これらは、さまざまなフォトレジスト感度に合わせて設計されています。
Q: KrF フォトレジスト露光中に、PEES モノマーの酸に不安定な保護基はどうなりますか?
A: 露光により光酸が発生します。エトキシエトキシ保護基は急速に切断します。ポリマーはフェノール性水酸基構造に変化し、リソグラフィーパターンの現像のためにアルカリ不溶性からアルカリ可溶性に変化します。
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